激光直接成像曝光機用聚焦結構及聚焦方法與流程

　　激光直接成像LP3000曝光機設備又稱影像直接轉移曝光機，是半導體生產領域中有別于傳統曝光設備的一個重要設備，是利用圖形發生器取代傳統光刻機的掩模板，從而可以直接將計算機的圖形數據曝光到晶圓上，節省生產時間和制作掩模板的費用，并且自身可用做掩模板的制作。聚焦作為光刻機系統中必不可少的一項關鍵，聚焦的時間和精度對光刻機系統的性能和曝光圖形的質量起到了至關重要的作用。